- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C02F - Traitement de l'eau, des eaux résiduaires, des eaux ou boues d'égout
- C02F 1/20 - Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout par dégazage, c. à d. par libération des gaz dissous
Détention brevets de la classe C02F 1/20
Brevets de cette classe: 1072
Historique des publications depuis 10 ans
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74
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24
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Kurita Water Industries Ltd. | 1110 |
44 |
| Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | 8217 |
27 |
| Evoqua Water Technologies LLC | 904 |
22 |
| Organo Corporation | 394 |
20 |
| Veolia Water Solutions & Technologies Support | 547 |
19 |
| Orege | 36 |
16 |
| Anaergia Inc. | 111 |
13 |
| Massachusetts Institute of Technology | 9795 |
8 |
| Anschutz Exploration Corporation | 10 |
8 |
| Heartland Water Technology, Inc. | 30 |
8 |
| Chevron U.S.A. Inc. | 3774 |
7 |
| Hitachi, Ltd. | 16452 |
6 |
| Covestro Deutschland AG | 2429 |
6 |
| MKS Instruments, Inc. | 698 |
6 |
| Nomura Micro Science Co., Ltd. | 67 |
6 |
| Outset Medical, Inc. | 58 |
6 |
| FUJIFILM Corporation | 27102 |
5 |
| Bill & Melinda Gates Foundation, William H. Gates III and Melinda F. Gates, both US citizens | 28 |
5 |
| Bion Environmental Technologies, Inc. | 8 |
5 |
| General Electric Technology GmbH | 1657 |
5 |
| Autres propriétaires | 830 |